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Unión PN positiva recoger los electrones fotogenerados a la región de difusión de los flujos de fósforo a lo largo del borde de la parte posterior de la unión PN, y causar un cortocircuito. Por lo tanto, la periferia de la célula solar debe ser dopado de silicio grabado para eliminar el borde unión PN de la batería. Técnica de grabado de plasma comúnmente utilizado para completar este proceso. Grabado por plasma bajo un estado de baja presión, la reacción de la molécula de matriz en la formación de gas CF4 RF de excitación de potencia, ionización y plasma. El plasma se compone de los electrones y los iones cargados, en la cámara de reacción bajo un gas de electrones de iones impacto en Además, sino también a absorber la energía y forman un gran número de grupos reactivos. Grupos activos o reactivos llegan superficie de SiO2 debido a la difusión en el campo eléctrico, donde la superficie está grabada con la ocurrencia de reacciones químicas y la formación de productos de reacción volátiles de la superficie del material a ser grabado, dibujado por el sistema de cámara de vacío. En sexto lugar, la tasa de eliminación película anti-reflexión revestimiento reflectante era 35% de la superficie de silicio, con el fin de reducir la reflexión de la superficie para mejorar la eficiencia de conversión de la batería, es necesario depositar una capa de película de nitruro de silicio antirreflectante. La producción industrial se utiliza a menudo en la preparación de los equipos de PECVD película anti-reflexión. Que el plasma PECVD deposición de vapor químico mejorada. Es el uso de baja tecnología de plasma de temperatura para la fuente de energía, la muestra se coloca en la descarga luminiscente de baja presión en el cátodo de la descarga luminiscente, la muestra se calienta a una temperatura predeterminada y luego se pasa por la cantidad apropiada de SiH4 gas de reacción y NH3, el gas Después de una serie de reacciones químicas y de reacción de plasma, la superficie de la muestra para formar una película sólida que es una película de nitruro de silicio. Generalmente, el espesor de la película del método de deposición química de vapor usando una deposición tales mejorado con plasma de aproximadamente 70 nm. Dicha película tiene un espesor de la funcionalidad óptica. Reflejando el uso del principio de interferencia de película delgada, puede hacer que la luz de la corriente de cortocircuito de la batería muy reducido y la salida hay un gran aumento de la eficiencia es también una mejora considerable. Después de siete a?os, serigrafía células solares a través de procesos de texturizado, difusión y PECVD, ha hecho de la unión PN, puede producir una corriente a la luz, con el fin de exportar la corriente se genera en la superficie de la batería necesita para producir dos electrodos positivos y negativos . Muchos métodos para producir el electrodo, y la producción de la impresión de pantalla es el tipo más común de electrodos de células solares del proceso de producción. La serigrafía es un método que utiliza un patrón predeterminado en relieve impresa sobre un sustrato, el aparato de aluminio por una pasta de plata batería de superficie impresa, pasta de aluminio impreso en la parte posterior de la batería y la impresión de plata positivo de la batería de tres partes. Su principio de funcionamiento es: el uso de la parte gráfica de la pantalla de malla a través de la suspensión, con una espátula de ejercer un cierto sitio de lechada de presión en la pantalla mientras se mueve hacia el otro extremo de la pantalla. La tinta se extruye desde la porción de raspador del patrón de malla en el movimiento al sustrato. Puesto que la viscosidad de la suspensión de manera que el papel de impreso fija dentro de un cierto rango, la impresión, la impresión de pantalla de la escobilla de goma siempre es lineal y el sustrato en contacto con la línea de cuchilla de contacto móvil se mueve, completando de esta manera la carrera de impresión.